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回路設計者が知っておくべき半導体の基礎
ーカスタムIC開発のトラブルを防ぐためにー
2026年7月22日(水)
  • 13:00~14:00(開場12:45~)

セミナー概要

カスタムICは、高電圧・大電流、低ノイズ、高周波など、市販品では実現が難しい性能を達成するために不可欠な手段です。しかし、その開発には1~2年の期間と数百万円~数千万円規模の費用が必要となり、途中での仕様変更は大きなコスト増加につながります。そのため、機器メーカと半導体ベンダー間の初期段階での正確な意思疎通が極めて重要です。
本セミナーでは、発注側の回路設計者が知っておくべき半導体の基礎として、プロセス・電圧・温度による特性変動、破壊メカニズム、パッケージの影響などを分かりやすく解説します。半導体の専門知識がなくても、適切な仕様検討と円滑なコミュニケーションを実現し、開発リスクを低減するための実践的な知識を提供します。

開催日
2026年7月22日(水)
時間
  • 13:00~14:00(開場12:45~)
対象者

・初級及び、中級技術者
・カスタムIC設計にかかわる機器メーカの技術者、並びに半導体IC設計の初級者などを対象にしています

開催方法 Zoom (ウェビナー)
参加費 15,400円(税込)

セミナー内容

1 カスタムIC開発とは
・フルカスタムICが必要になる本質
・カスタムICの開発フロー
・カスタムICの主なコスト/開発フェーズ×変更コスト曲線
・IC設計における検証作業の重要性
・IC設計の常識
2 カスタムICの仕様に関する注意点
・仕様・設計レビューで機器メーカが困ること
・開発フロー全体を通じて機器メーカが困ること
・カスタムIC仕様作成の注意点(汎用ICとの違い)
・機器とカスタムICとの機能分担での失敗例
・暗黙仕様の失敗例
・開発スタート後の仕様変更の影響
3 半導体の特性が回路に及ぼす影響
・MOSFETの構造と、その性能を決める代表パラメータ
・回路動作に影響するMOSFET特性のばらつき
・MOS特性ばらつきのコーナー条件
・PVTによる遅延ばらつき
・設計段階でPVTworstの性能が目標未達のとき
・PVTworst「SS×Vmin×Tmax」は、ほぼ起きない
・寄生容量による速度低下
・エレクトロマイグレーション、リーク電流
・デバイスが破壊する原因:静電破壊とラッチアップ
・アナログ分野で重要なレイアウト
・IC分野ごと主要半導体パラメータとその影響
4 半導体パッケージが回路に及ぼす影響
・パッケージ寄生が誤動作を引き起こす
・パッケージの熱抵抗
・パワー半導体パッケージで特に注意すべきこと
5 最後に
・カスタムIC開発で心がけること
・それでも変更が必要になる被害を最小にしたい
6 質疑応答

到達目標

カスタムIC開発において、半導体の専門知識がなくても、適切な仕様検討と円滑なコミュニケーションを実現でき、開発リスクを低減するための実践的な知識を持つことができる。

講師プロフィール

前多 正

1983年 豊橋技術科学大学電気電子工学専攻修了、同年、日本電気株式会社入社。

1999年 同社光無線デバイス研究所主任研究員、2006年 同社デバイスプラットフォーム研究所主幹研究員。2010年 ルネサスエレクトロニクス株式会社を経て、2015年より芝浦工業大学電子工学科教授、2024年退職。

2005年~2010年International Solid State Circuit Conference (ISSCC)ワイヤレスプログラム委員、2018年電子情報通信学会英文論文誌(A)小特集プログラム編集委員長などを歴任。

専門は、アナログRF回路設計。

著書は、RF集積回路の設計手法、高速デジタル信号伝送回路の設計と評価法(以上、科学情報出版)、アナログ電子回路、ディジタル電子回路(以上森北出版)

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申込期限:2026年7月15日(水)まで

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